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CQADI设计丨“公园里的生产力”——重庆纳米电子材料产业园暨创建国家纳米电子材料(西南)检测中心项目

学问交流
2019-12-05

为了更有效地利用和发展大学城创新资源优势,加深加快“产-学-研”合作与转化,提升区域核心竞争力,沙坪坝区目前正着力打造“重庆·大学城科技产业园”,充分发挥沙坪坝区在全市创新驱动、转型发展中的示范引领作用。本项目作为科技产业园区引进的高新技术产业项目,旨在整合区位优势资源,为建成具有前瞻性、竞争力的综合性产业园蓄力。

项目名称:重庆纳米电子材料产业园暨创建国家纳米电子材料(西南)检测中心

项目地址:沙坪坝区曾家镇西永组团S标准分区S5-1/01部分地块

建设范围:项目地块总用地面积37084平方米,由5栋普通厂房1栋配套楼及门卫室组成

业主单位:重庆龙润科技有限企业

设计团队:新葡京官网丨城市建筑二院

项目概述

项目位于重庆市沙坪坝区西永组团S标准分区S5-1-1/04部分地块,项目东侧兴顺路已形成,北侧兴中路与西侧C线道路及南侧市政道路正在修建中。地块呈东西矩形状,南北宽约130m,东西长约450m,整个地块南高北低,地块标高从306.00到311.30之间。最大高差约5.3米,无不良地质现象,适宜建设。

基地现状

周边用地未经开发,项目紧临兴顺路,道路已经建设完成;北侧兴中路在建,现状基地正在平整场地,基地东侧为正在建的工地。

设计理念

科技创新、自然共享、绿色生态

设计策略

构建园区生态绿地

① 注入“自然共享”概念,构建丰富多彩的共享空间

② 营造“科技创新”空间氛围、打造现代化办公环境

设计要点

· 结合地貌特征,充分利用地形,建造与时俱进的现代工业建筑。

· 满足规划、消防、园林、节能等各项技术要求,解决好不同功能空间和人流的使用要求,做到功能合理、技术先进。

· 根据用地的情况,合理布置建筑,从内部空间到外部环境及建筑造型,强调相互之间的贯通性和逻辑性。

· 合理布置各种配套服务设施,使其功效最大化,充分考虑消防、停车、园区管理用房等设施的布置。

总平面图

功能分区

交通设计

园区车行入口及人行入口设置在地块北侧兴中路(城市次干道)上,作为园区的主要车行及人行出入口,可减轻城市干道的交通压力。园区车行次入口设置于地块南侧市政道路上。基地内部道路形成单向循环交通系统,最大程度提高行车效率;道路宽度采用7米双车道,使每栋厂房进出货方便快捷。

交通流线

竖向设计

基地竖向设计顺应城市道路坡向,使园区内的道路坡度基本与城市道路坡度相一致。且尽量使园区道路坡度控制在1%以内,让厂房两端的竖向高差控制在1m以内。根据规划道路与园区道路标高设计,使拟建项目场地形成一个完整的自然排水区,雨水由西南道路高点向东北道路低点排放。

竖向设计

效果展示

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